第209章 如此精通(2 / 2)

“嗯,我读过一些光刻机相关书籍,略知一二。”霍启煊谦虚一笑。

其实,在初次见院士时,霍启煊意识到自已对光刻机的认知十分有限,甚至基本的耗电特性都不清楚。

因此,他花了大量时间恶补光刻机知识。

包括光学原理、图像处理和半导体器件等内容。

若想达成金融与科技双轮驱动的目标,绝不能让自身知识体系存在短板。

深入理解光刻机这类尖端技术,方能精准投资并引领科技前行。

这些知识终将融入自身,掌控它们便是把握主动权。

光刻机无疑是当今人类最顶尖的设备,其背后的理论物理与数学同样深邃,且能延伸至诸多领域。

光刻机集成了光学、精密机械、控制论及材料科学等多学科前沿成果。

涉及的理论物理如光传播、衍射与相干原理;数学则涵盖数值分析、优化算法及随机过程。

这些理论皆具广阔应用价值。

比如,光学成像理论可用于新型摄像技术,光栅衍射模型适用于传感器设计,而控制算法亦可推广至各类精密装置。

光刻机所整合的跨学科知识在某种程度上体现了当代科技发展的巅峰水准。

即便在远离光刻机的其他领域,这些知识也能激发灵感,助力解决更多科学难题。

掌握这些知识,便站上了技术前沿,具备驾驭多领域的能力,甚至有望成为全球科研的引领者。

这正是霍启煊潜心钻研光刻机理论的核心动因。

肖光耀凝视霍启煊片刻,忽问:

“小霍,你了解光的相干长度对光刻的影响吗?”

霍启煊轻笑作答:

“光的相干长度决定相干光波面区域大小,若此长度足够长,整个曝光视野即可实现相干,从而确保光刻图案的整体成像质量。

这一点至关重要。”

肖光耀神色微变,继续追问:

“光刻机的曝光系统使用的是何种光源?”

“当前主要有准分子激光与准连续激光两种方式。

前者具有良好的相干性,后者则拥有更高的光强。

二者各有利弊,还需进一步研究。”霍启煊毫不犹豫地答道。

肖光耀并未停止追问,接连提出更多问题。

他甚至不让霍启煊有思考间隙,一个接一个地抛出问题。

“光刻机的曝光次数如何影响成像质量?”

“曝光次数过多会引发光学迁移效应,进而影响成像质量。”

“减少曝光次数呢?”

“曝光不足会使光强不足,细节难以呈现,需找到最优平衡点。”

“那么光刻胶的质量对成像效果有多大影响?”

“光刻胶的散射率与粘附性直接决定了成像的清晰度。”

倪洸楠在一旁听得目瞪口呆,几乎怀疑自已的耳朵出了问题。

肖光耀尚可理解,作为物理与数学领域的顶尖专家,又是于勄院士最得意的 ** 之一,他无疑继承了于勄院士的全部知识体系。

然而,霍启煊又是如何做到的?

这样的反应速度以及对光刻机的深度理解,难道仅仅靠阅读几本 书就能掌握?

没有数十年的潜心钻研,绝不可能有这样的理解。

当倪洸楠震惊时,肖光耀同样震撼不已。

但他并没有停下,反而继续设下陷阱,想要测试这个年轻人是否仍能准确作答。

“你刚才说增加曝光次数可以减少光迁移?”肖光耀眯起眼睛。

“不是,我是说减少曝光次数能够缓解光迁移效应。”霍启煊摇头纠正。

肖光耀并未放弃,继续发问:

“光刻胶折射率提高对成像是否有帮助?”

“没有帮助,折射率与成像效果无直接关联,关键在于散射率。”

霍启煊与人交谈时语速飞快,问题层出不穷。

然而,他应对自如,思路始终清晰,直击核心,避开所有陷阱,精准作答。

几句交锋后,现场陷入令人窒息的沉默。

肖光耀注视着霍启煊,眼中的震撼愈发强烈。

倪洸楠张口结舌,无言以对。

这孩子难道还涉猎了物理和数学?即使有所涉猎,也不该达到这种高度。

这两门学科极为严谨,绝无捷径可走。

唯有脚踏实地,长期深耕,方能精通各类理论与公式。

即便天资聪颖,也需要十年甚至更久的积累,才能构建起如此深厚的知识框架。

可霍启煊年纪轻轻,所学专业与光电物理并无关联,怎么可能在短时间内掌握如此广博的光电知识?他展现出的深度与广度,甚至足以与肖光耀论辩。

而连肖光耀都自承在这一领域不及他,霍启煊却能轻松跟上。

这绝非“兼修”二字所能涵盖。

倪洸楠满心疑惑,脑海中尽是疑问。

肖光耀紧紧握住霍启煊肩头,仿佛在审视一件稀世珍宝:“小霍,你是不是换了专业?”

“没有!”霍启煊摇头否认。

“那你怎么懂这么多?”肖光耀难以置信。

“我读了些书。”霍启煊答道。

“是自学的?”肖光耀几乎怀疑自已的判断力。