1979年的初夏，清华大学物理系的实验室里弥漫着松香和酒精的混合气味。林卫国趴在操作台上，戴着放大镜，小心翼翼地用镊子夹起一片指甲盖大小的硅片。窗外的蝉鸣聒噪，他却浑然不觉，眼里只有那片硅片上密密麻麻的纹路——这是他们团队熬了三个通宵刻出来的集成电路雏形，线条宽度比头发丝还细。
“卫国，成了吗？”师兄王磊凑过来，眼睛里布满血丝，手里还攥着半块没吃完的馒头。为了攻克光刻胶均匀涂布的难题，他们已经在实验室待了整整一周，连床铺都搬到了隔壁的休息室。
林卫国屏住呼吸，将硅片放进氧化炉：“再等半小时，看氧化层厚度能不能达到1.2微米。”他的声音带着疲惫，却难掩兴奋，“这次的光刻胶配方加了点聚乙二醇，流动性应该能改善。”
这个配方是林建军给的。上个月父亲来北京开会，偷偷塞给他一本油印的《半导体材料制备手册》，里面用红笔标注了“光刻胶改良方案”——正是系统奖励的“半导体研发指南”里的核心内容。当时林建军反复叮嘱：“别说是我给的，就说是团队摸索出来的。”
氧化炉的指示灯跳成绿色时，实验室里一片寂静。林卫国用椭圆偏振仪测量完数据，猛地一拍桌子：“1.18微米！合格了！”
王磊激动地抱住他，差点把手里的馒头捏碎：“太好了！这下不用再被教授骂‘连块像样的硅片都做不出来’了！”
他们的项目是“高纯度硅材料制备与集成电路光刻技术研究”，属于国家重点攻关项目。年初时还陷入僵局——进口的光刻胶太贵，国产的涂布总是不均匀，导致电路线条边缘模糊，合格率不足10%。教授都快放弃了，说“实在不行就申请进口设备”。
“进口设备要等半年，还得花外汇。”林卫国当时就不服气，想起父亲说的“别人能做的，咱们凭啥不能”，硬是带着团队扎进了实验室。他把父亲给的手册里的配方拆解成五个变量，一次次试验，光是报废的硅片就堆了半箱。
【叮！】
系统的提示音突然在林卫国的意识里响起——这是父亲之外，系统第一次直接与他交互，带着电流般的轻微震颤：【检测到“光刻胶改良技术突破”，符合“自主创新”主线。】
【奖励“集成电路版图设计软件（简易版）”：可在计算器上运行，辅助设计1000门以下逻辑电路，提升设计效率30%。】
林卫国愣了一下，随即反应过来——这大概是父亲说的“技术传承”的一部分。他不动声色地记下令牌操作步骤，等夜深人静时，偷偷在实验室的老式计算器上调试，果然能用简单的代码绘制电路版图，比手绘效率高太多。
“卫国，你这版图画得越来越快了。”王磊看着他一天就画完的计数器电路，满脸佩服，“以前画这个至少得三天。”
“瞎琢磨出来的小技巧。”林卫国笑了笑，没多说。他知道，真正的科研容不得半点虚假，但在追赶的阶段，一点“站在巨人肩膀上”的助力，能少走太多弯路。
暑假前，他们终于做出了第一块合格的集成电路——4位二进制计数器，虽然简单，却是国内首次用国产材料和设备自主制备的。教授拿着成品去参加全国半导体学术会议，回来时眼睛都红了：“中科院的专家说，这技术至少能让咱们的集成电路研发提前一年！”