原子层光刻，是光刻技术的终极形态。
它可以完全摆脱光学，或电子束的物理限制，在理论上，没有最小制程瓶颈。
而且，其对材料的利用率，接近100%。
技术如此先进，研发难度自然也是最大的。
先是原子束的操控问题，不管强度、精度，还是稳定性，当前的技术水平都无法达标。
接着是激光方面，与穹辰计划追求高功率不一样，原子层光刻机的激光技术，更注重稳定性，以及激光与原子相互作用的精确控制。
最后，还有掩膜材料、光刻工艺、原子与表面相互作用的精确控制等方面，都存在技术难关。
就算把这些技术问题，都给解决了，研发和制造难度依然巨大。
因为，原子层光刻需要在高真空等特殊环境下进行，对设备的精度和稳定性要求极高。
设备上的各个部件，如原子源、激光系统、真空系统、原子光学元件等，都需要具备高精度的制造和装配工艺。
因此，江晟对这个项目抱有足够的耐心，并不急于求成。
但作为项目负责人的臧教授，却背负着巨大压力。
当初，原子层光刻机项目，与纳米压印同时立项。
如今，纳米压印光刻机，已经量产两年多，连使用其生产的芯片都卖了快两年。
可原子层光刻机，却始终悄无声息。
直到此时，项目取得重大突破，臧教授才兴冲冲地给江晟打电话报喜：
“这一次，我们取得突破的关键性技术，是对原子束的操控。
基于热蒸发技术和喷射法，我们摸索出了一套，新的原子束产生方法，在束流强度和稳定性上，都有很大提升。
接下来，只要再解决激光、掩膜和光刻工艺等方面的技术难题，应该就能将第一台样机做出来。”
“具体要多久？”
“对原子束的操控，是项目最大难关，攻克这个难关，接下来就要容易得多。
我预计，最多两年，就应该能做出样机。实现量产并投入使用的话，可能要三到四年。”
三到四年，这个时间说长不长，说短不短。
不过，江晟还等得起。
由于技术难度高、设备复杂，原子层光刻机从研发到生产，成本都非常高。
包括投入使用后的维护，还有芯片制造工艺的研发，都需要花费很大成本。
可以说，它与纳米压印，几乎是光刻领域的两个极端。
这意味着，即使原子层光刻机做出来，在短时间内，也不会对纳米压印，产生太大威胁。
它能影响的，只有一小部分高端市场。
当然，这是以目前的产品和技术水平为参照，等原子层光刻机研制成功，手机等产品的形态，可能会发生巨大改变。
说不定，真能把手机，做成只有银行卡那么厚。
想到这里，江晟向臧教授说道：
“原子层光刻机不必太赶，即使做出了样品，也不要急着生产，可以继续优化。
等到大漂亮也研发出纳米压印光刻机，再生产也不迟。”